RTV防污闪涂料在输电线路及变电站的应用

近几年电力系统污闪事故时有发生，对供电的可靠性造成威胁。从各种防污措施的比较，说明了新型防污涂料RTV和PRTV的使用价值，及由此产生的社会经济效益。     

Characterization of low refractive index SiOCF:H films designed to enhance the efficiency of light emission

An anti-reflection (AR) coating was deposited on the surface of flat panel displays to increase the efficiency of the light emission. The use of low reflective index material can decrease the thickness of the optical coating layer. In this work, low refractive index SiOCF:H films were deposited on P-type (100) Si and glass substrates by the plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method using an SiH₄, CF₄ and N₂O gas mixture. The refractive index of the SiOCF:H film continuously decreased with increasing deposition temperature and rf power, exhibiting a minimum value of 1.3854. As the rf power was increased, the fluorine content of the film increased linearly to 5.41% at an rf power of 180 W. The rms surface roughness decreased to 1.0 nm with increasing rf power, with the optimum conditions being observed for the film deposited at an rf power of 140 W.     

电弧离子镀制备TiAlN膜工艺研究

采用阴极电弧离子镀技术在1Cr18Ni9Ti不锈钢基材上制备TiAlN膜层,镀膜装置为俄罗斯科学院UVN 0.5D2I电弧离子镀膜机,该设备由一个大功率的气体离子源和两个金属蒸发源组成.气体离子源具有气体离子轰击和辅助沉积的特点.研究了电弧电流、负偏压和气体离子源功率等工艺参数对膜层的影响规律.实验结果表明:气体离子源具有明显的细化金属颗粒的作用.提出了制备TiAlN膜层的最佳工艺,得到了厚度为5 ～10μm、相结构为Ti0.5Al0.5N、显微硬度为1200HV0.01的TiAlN膜层.     

激光熔覆生物陶瓷涂层及界面的热力学计算

在医用金属材料表面形成一层生物陶瓷是制备高性能、高可靠性生物植入材料的有效途径．采用激光处理技术在钛合金表面同步合成及熔覆了以羟基磷灰石为主的生物陶瓷涂层复合材料，激光熔覆制备生物陶瓷涂层覆界面反应是非常复杂的过程，其中包括很多的化学反应，从物理化学角度对涂层覆界面反应进行热力学计算，计算结果表明：在该实验条件下，完全具备合成羟基磷灰石、磷酸钙等生物陶瓷涂层的热力学条件，而且也满足界面处发生化学反应生成钛酸钙等新相的条件。     

微弧氧化和水热合成在钛基上制备羟基磷灰石

在含有0.04mol/L的磷酸二氢钠和0.01mol/L的醋酸钙电解液中对T i进行微弧氧化,生成含Ca和P很高的氧化膜。氧化膜粗糙多孔。然后,将样品放在220℃的高压釜中进行4h的水热处理,羟基磷灰石晶体在氧化膜表面沉积。用XRD检测氧化膜的晶体结构,用XPS研究氧化膜表面的化学成份,用SEM-EDS观察样品表面形貌。     

颗粒包覆法制备BZT-CT复合陶瓷

采用预合成的方法,分别用得到的单斜类锆钙钛矿相Bi2(Zn1/3Ta2/3)2O7(β-BZT)和钙钛矿相CaTiO3(CT)的粉末作为正负温度系数组元,用sol-gel法制备的ZnO-B2O3-SiO2玻璃,包覆两组元颗粒以阻止其相互反应,从而制备复相零温度系数微波陶瓷。结果表明:预合成及颗粒包覆法可抑制两相固溶反应,有效降低复相陶瓷的烧结温度,调节温度系数。特别是900℃烧结的w(CT)为4%的样品,其εr约为47,αε为2.8×10–6℃–1。     

压电陶瓷银层附着力及其影响因素

通过瓷件表面粗糙度、瓷件的清洗方式、烧渗银温度和曲线等工艺过程的试验,研究了压电陶瓷银层附着力的影响因素。结果表明主要影响因素是瓷件表面粗糙度、清洁度以及银层烧结温度和曲线。在实际应用中,如果用天然石榴石金刚砂W40微粉细磨瓷件表面,再采用超声波清洗及煅烧,然后在780℃左右烧渗银,可使附着力达到最大,约1800N/cm2。     

啁啾镜与棱镜对混合色散补偿产生8 fs光脉冲

利用宽带啁啾镜（CM）与熔石英棱镜对结合优化色散补偿，从掺Ti蓝宝石振荡器中获得具有带宽大于100nm、光谱结构光滑的亚4个光学周期脉冲。该激光器输出脉冲的中心波长在780nm处，最短脉冲宽度为8fs，最宽的光谱半宽度为180nm。在3．5W泵浦下，输出功率为280mW。更重要的是该激光器能够稳定地运转在“马鞍型”的光谱状态，这对于作为啁啾脉冲放大器种子激光源，克服放大过程的“增益窄化”效应有实际意义。     

U表面Al及Ti/Al双重镀层的电化学腐蚀行为

采用动电位极化技术和扫描电镜(SEM)对U表面Al及Ti/Al双重镀层在含50μg/gCl^－的KCl溶液中的电化学腐蚀行为进行研究。研究结果表明：U表面Al镀层和Ti/Al双重镀层的腐蚀为局部腐蚀，其腐蚀速度明显低于裸体U，能够对U表面提供较好的保护。Al镀层相对U基体为阳极性镀层，能对U基体提供牺牲性保护；Ti镀层相对U基体为阴极性镀层，对U基体的保护是基于镀层对腐蚀介质的物理屏障作用。     

HMDS预处理系统

讲述了HMDS预处理工艺过程,HMDS预处理系统的优越性及该系统的工作原理与结构。